光刻机订单创纪录，阿斯麦发布最新财报_pcimasia半导体展2026

第二季度财报发布，阿斯麦宣布其营收和利润均超市场预期，其中EUV和下一代High-NA EUV光刻机的订单量创下了历史新高!其也在电话会议中警告了地缘政治风险!

光刻机对于制造芯片的重要性是什么?

光刻机在芯片制造中具有决定性的重要性，主要体现在以下几个方面：

核心工艺环节

光刻机是芯片制造流程中最关键的设备，被誉为"芯片制造的核心设备"和"半导体产业皇冠上的明珠"。在整个集成电路制造过程中，光刻工艺一般会耗费总成本的30%，耗费时间约占整个硅片工艺的40%-60%，是决定芯片制造成本和生产效率的核心环节。

技术精度决定芯片性能

光刻机的分辨率直接决定了芯片的最小制程和集成度。现代光刻机需要达到极高的分辨率，例如EUV光刻机采用13.5纳米波长的极紫外光，能够在硅片上精确复制微小的电路结构。更高的分辨率意味着更小的晶体管尺寸，从而在相同面积上集成更多晶体管，提升芯片性能和降低功耗。

多层制造能力

现代芯片通常由30多层电路堆叠而成，每一层都需要经过光刻工艺。光刻机能够实现多层次的图案转移，每一层图案都需要与前一层进行精准对齐，套刻精度要求达到纳米级别。如果对准偏差过大，会导致芯片元件之间的连接出现偏差，直接影响芯片功能和良率。

推动技术进步

光刻机技术的突破直接推动了半导体产业的发展。从早期的微米级制程到如今的纳米级制程，每一次技术跨越都依赖于光刻机技术的重大突破。特别是EUV光刻技术的出现，使得7纳米及以下先进制程芯片的生产成为可能。

产业战略地位

光刻机的高技术壁垒使其成为战略性装备。目前全球高端光刻机市场主要由荷兰ASML公司垄断，其EUV光刻机售价高达1.5亿至2亿美元，从下单到交付周期通常为12-18个月。这种技术垄断地位使得光刻机成为半导体产业链中的关键"卡脖子"环节。

质量与良率控制

光刻机对图案转移的精度和稳定性要求极高，需要确保每一块硅片上的图案与设计规格完全一致。光刻过程中的焦距误差、掩模缺陷、颗粒污染都会显著影响芯片良率，因此光刻机配备了先进的控制算法和反馈系统，进行严格的质量监控。

来源：广州光亚法兰克福展览有限公司

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