我国首台串列型高能氢离子注入机!自主研制!_2026pcimasia半导体电子展

由中核集团中国原子能科学研究院自主研制的我国首台串列型高能氢离子注入机（POWER-750H）成功出束，核心指标达到国际先进水平。这意味着我国已全面掌握串列型高能氢离子注入机的全链路研发技术，将功率半导体制造链中的关键环节攻克！高端制造装备自主可控和保障产业链安全奠定两方面，有了坚实基础！
芯片制造的“四大核心装备”是：离子注入机、光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备。在半导体制造中，这些都是“刚需”设备。我国高能氢离子注入机长期以来完全依赖国外进口，制约我国关键技术产业升级发展的瓶颈就是其研发难度大、技术壁垒高。

离子注入机在半导体生产制造中发挥了什么作用？世界知名的离子注入机品牌有什么呢？
在半导体生产制造中，离子注入机发挥了掺杂工艺核心设备、精确控制掺杂、工艺灵活性等作用！
掺杂工艺核心设备：
通过高能离子束轰击硅片，精确控制杂质浓度和分布，形成PN结、沟道等关键结构，决定晶体管电学特性。
精确控制掺杂：
相比扩散工艺，离子注入能实现更精准的剂量和深度控制，满足先进制程对掺杂均匀性、浅结深度的要求。
工艺灵活性：
可独立控制注入能量、剂量、角度，实现多种掺杂类型、多区域选择性掺杂，支撑复杂器件结构制造。

世界知名离子注入机品牌：
应用材料（Applied Materials）：
全球最大半导体设备商，离子注入机市占率领先。
Axcelis：
专注离子注入领域，在中低能注入市场优势明显。
日立（Hitachi High-Tech）：
日本头部设备商，高能注入机技术成熟。
汉辰科技（Advanced Ion Beam Technology）：
中国本土企业，在部分细分领域实现突破。

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来源：广州光亚法兰克福展览有限公司

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