本报讯 (记者何 可)近日,由中国半导体行业协会知识产权工作部等部门联合编写的《中国集成电路产业知识产权年度报告》(2018版)(以下简称报告)正式发布。报告显示,从2017年起,中国集成电路产业专利年度公开数量超过了美国,但累计数量与美国相比仍有较大差距。
集成电路作为信息产业的基础和核心,是关系国民经济和社会发展全局的基础性、战略性产业。近年来,我国集成电路产业进入快速发展期,同时国际国内集成电路企业之间在知识产权主导权上竞争激烈。我国正大力研究具有自主知识产权的集成电路技术,并取得了不错的成效。
截至2018年年底,公开的美国集成电路专利数为740367件,授权且有效的专利数为361570件。1999年至2018年,公开的美国集成电路专利在2002年度达到高峰,接近4万件后稍有下降,自2006年起申请数量趋于平稳,每年专利公开量保持在3万至3.5万件。
排名前20的美国专利主要专利权人基本是全球集成电路知名企业,其中美国企业8家,日本企业8家,韩国、荷兰、瑞士、中国台湾企业各1家。报告指出,在全球集成电路产业的技术积累和创新上,美国和日本企业走在世界前列,中国企业还需持续投入研发和创新。
与美国公开专利10余年保持相对平稳不同,近10年来,我国集成电路专利数量持续快速增长。从2017年起,中国专利年度公开数量超过美国专利年度公开数量。2018年度公开数量高达4万件以上,但我国集成电路产业专利的累计数量与美国相比仍有较大差距。
《中国质量报》